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公司基本資料信息
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TS-62A Brighter Nickel Plating Process
一、 工藝特點:
TS-62A工藝鍍層柔軟、整平能力強、光亮度高、出光速度快、鍍鉻層容易上鍍等特點,鍍液管理溶液。能提供很寬的電流密度范圍,在極低的電流密度區(qū)鍍層亦光亮,適合形狀復雜及大工件電鍍。光亮劑受活性炭影響很小,連續(xù)以少量活性炭過濾溶液更能保持本工藝的良好效果。
二、 溶液成分及操作條件:
硫酸鎳(NiSO4.7H2O) |
280―340 g/l |
氯化鎳(NiCl2.6H2O) |
60―90 g/l |
硼酸(H3BO3) |
40―50 g/l |
在調(diào)整PH前加入以下添加劑
TS-61D |
光亮劑 |
1.5―2.5ml/l |
TS-41# |
開缸劑 |
7.5―10ml/l |
TS-63# |
柔軟劑 |
7.5―10ml/l |
TS-62A |
潤濕劑 |
1―2ml/l |
工作溫度 |
℃ |
55―68 |
陰極電流密度 |
掛鍍 A/dm2 |
1.5―8 |
滾鍍 A/dm2 |
0.6―1.5 |
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PH |
3.5―4.5 (4.0最佳) |
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攪拌 |
空氣攪拌或陰極移動 |
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過濾 |
最好以少量活性炭連續(xù)過濾 |
三、溶液配制方法:
1. 加鍍槽體積的2/3水,加熱至50-60℃。
2. 加入計算量的硫酸鎳、氯化鎳充分攪拌使之溶解。
3. 用熱水溶解計算量的硼酸并加入到溶液中。
4. 按每升溶液加2-3g優(yōu)質(zhì)活性碳攪拌1-2小時,靜置2小時后過濾。
5. 加水至鍍槽體積并用稀硫酸調(diào)PH至3.0。
6. 用瓦楞板做陰極以0.2-0.3A/dm2低電流電解溶液至低電流處不黑為止。
7. 用碳酸鎳溶液調(diào)PH值至工作條件。
8. 依次加入所需量的TS-61D、TS-63#、TS-41#及潤濕劑,充分攪拌均勻后即可試鍍。
四、溶液維護:
1. 溶液中的NiSO4、NiCl2、H3BO3通過化學分析進行調(diào)整、補充。
2. 添加劑的消耗量參考數(shù):
TS-61D光亮劑的消耗率約250-400ml/1000AH
TS-63# 柔軟劑的消耗率約40-80ml/1000AH
TS-41# 開缸劑不補加
TS-62A 潤濕劑的消耗可根據(jù)鍍層狀況補加
3. 控制溶液的PH值。使用稀釋的硫酸或碳酸鎳調(diào)整PH值。
五. 注意事項:
1. 鎳陽極應用耐酸丙綸布陽極袋。
2. 避免油漬等污染。
3. 添加劑的補充最好少加勤加。
4. 避免氨與氨鹽進入溶液,需遠離鍍液。
5. 溶液最好以活性碳濾芯連續(xù)過濾,或定期進行活性碳處理。
6. 鍍層出現(xiàn)脆性或低電流區(qū)不亮(注意是否銅、鋅雜質(zhì)影響),可通過霍爾槽試驗補充TS-63#柔軟劑解決;鍍層亮度差可補充TS-61D解決。
特別聲明
“此說明書的所有提議或建議關(guān)于本公司產(chǎn)品,是根據(jù)本公司信賴的實驗及資料為標準,因不能控制其他從業(yè)者的實際操作,本公司不能保證及負責任何不良后果。次說明書的所有資料也不能作為侵犯版權(quán)的證據(jù)”。