高光澤鏡面感，飽滿度強(qiáng)以及低區(qū)延展性佳，氯離子的操作範(fàn)圍寬、耐溫性高，穩(wěn)定，容易管理，長(zhǎng)期使用不會(huì)產(chǎn)生分解物。

應(yīng)用范圍

塑膠工藝～一般范圍均可使用。

銅和硫酸

當(dāng)銅或硫酸的濃度太低時(shí)高電位容易產(chǎn)生樹枝狀和燒焦。

氯離子

太低時(shí)會(huì)造成整平不佳甚至產(chǎn)生麻點(diǎn)。氯離子補(bǔ)可使用氯化

鈉（氯離子1mg/L=1.7mg/L）或鹽酸（分析純37%）即氯離

子1mg/L=0.0023ml/L。

光劑

M太少—>整體光澤整平不足，太多會(huì)出現(xiàn)白霧。

A太少—>整體光澤會(huì)變?nèi)酰喔邊^(qū)容易有樹枝狀。

B太少—>高區(qū)光澤不良，過多低區(qū)光澤不良。

溫度

最適合的溫度為25^oC ，溫度越高光劑消耗量會(huì)增加。

攪拌

攪拌不充分容易產(chǎn)生燒焦。

過濾

連續(xù)過濾，使用活性碳會(huì)除去相當(dāng)程度的光劑。

電流

必須以鍍件的形狀及作業(yè)條件等因素來決定；密度不同則鍍

層特性及光劑的消耗量會(huì)改變；密度低時(shí)鍍層飽滿度變差、

內(nèi)應(yīng)力減少、硬度稍微提高。

管理方法

成分：平時(shí)分析硫酸銅和硫酸的成分，氯離子會(huì)隨電解減少。

光劑：消耗量會(huì)因電流密度、溫度、釋出等因素不同而影響?；钚蕴刻幚砗箜氃僦亟ㄐ略』蜓a(bǔ)充適量的光劑。